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因为28纳米这个节点,被证明是一个在成本、性能、需求等多方面达到了比较优化的组合的一个节点。
很多芯片产品,28纳米能够满足自己的需求。
因此在半导体制造业界仍然占据了很大的一块市场份额。
这也是给了国内芯片制造留了一个保命符。
所以当复兴半导体造出28纳米的光刻机时,国家直接发放了100亿的补助。
甚至水淼的云华手机,使用自产28纳米芯片,就可以大大减少代工需求的比例,从而降低中低端手机的成本。
到这一步,水淼甚至已经达到国内领先水平了,但他觉得这才刚刚开始攀登呢,他要站在山顶才行。
“……很抱歉打扰大家的雅兴,我知道大家都在为28纳米的成功而欢呼庆祝。
但我不得不说,同志们,我们需要进入14纳米时代,实在不好意思,在大家刚进入28纳米时代,就急着让大家继续奔跑,但是前方风景更好……”
水淼现在朝着14纳米的制程推进了,理论上来说28纳米的光刻机,在双倍曝光的基础下,也能够光刻14纳米的芯片,但是次品率会大大增加,非常的得不偿失。
而14纳米光刻机,就目前来说是高端的技术。
双倍曝光的情况下,它可以光刻7纳米制程的芯片,甚至还可以四倍曝光……。
一旦14纳米光刻机的出现,这就完全不一样了。
可以说,整个芯片行业都会发生翻天覆地的变化。
当前,水淼被光刻机的镜头难住了。
光刻机的光源要经过多次反射,每次反射都会增加误差,这就要求镜面的平整度极高,必须比光刻尺度还要低上1000倍。
目前能达到这种水平的只有汉斯国的蔡司。
但是现在,国内就是因为镜头不过关,始终卡在28纳米无法推进。
“或许可以在镜片镀膜机上着手……”
花了三个月,水淼看着放在工作台上大大小小的镜头,这些东西就是他这三个月的成果,通过设备检测它表面的光滑度发现甚至超过了母本光刻机,这让所有人对14纳米的光刻机成功有了更好的期待。
“试试吧。”
果然功夫不负有心人,最终的芯片达到了14纳米,一时间,众人都陷入癫狂,他们成功了!
到这个程度,华国甚至可以宣布,华国目前的芯片已经达到世界顶尖水平,但要达到自产自足,则需要将光刻机从研发阶段推入生产化。
一台光刻机里面,有足足十几二十万的零部件,全靠复兴半导体一家企业来做的话,那得搞到猴年马月去。
放着华国这么完整的产业链不用,反倒自己去搓每个螺丝,不但浪费国内这么好资源和基础,更是闭门造车吃独食的表现。
而能用本国的产业链,来完成一台光刻机的所有零件制造,全球有且只有一个国家才有可能做到,那就是华国!
因此,水淼作为总负责人,向各位领导汇报工作的时候也详细说明了这个情况。
目前最重要的就是根据研发团队给出的每个零件的数据,对全华国相关企业进行公开招标。
领导同意了,由水淼以光刻机研发组总工程师的身份全权负责此事。
或者换一句话理解,这场公开招标就是一场全国工业大摸底!
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