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在使用电子束镀膜机,没有光刻机。
芯片是不能够生产的,光刻机可以说在芯片制造的过程,属于核心设备,国内刻蚀机在二十一世纪以后才可以做到5nm。
而光刻机只能卡在9onm工艺节点的第四代DUV光刻机。
也是由于光刻机一直被卡,所以光刻机一直冲上热搜。
很多人只知道光刻机是核心设备。
但是大部分人不知道光刻机是做什么的,在芯片制造的过程中承担着什么角色?
首先你应该知道。
所用的芯片是从沙子来的,将沙子进行拉晶处理,就是将沙子中的Si元素提纯。
然后拉制出硅晶柱,然后将晶柱切成一片一片的,就是能看见的硅晶圆了。
要做的芯片就是在硅晶圆上进行一些操作,做成一个一个的器件。
器件的开关就能组成不同功能的芯片。
在芯片制造的过程中,有另外的两大核心设备,刻蚀机和电子束镀膜机。
其中刻蚀机的作用是在芯片制造的过程中是将制作器件过程中,不需要的晶圆刻蚀掉。
电子束镀膜机的作用是什么呢?
电子束镀膜机就是将不同的器件用一些金属连接到一起,
最后就组成了芯片。
在以上的整个过程中,每次想要刻蚀掉一部分晶圆,刻蚀之前就要使用光刻机进行曝光。
曝光之前要涂光刻胶,这个曝光其实就是通过紫外线使得想要刻蚀掉的晶圆上面的光刻胶变性。
从而能够洗掉变性的光刻胶,然后想要刻蚀掉的晶圆部分就暴露出来。
其他地方会被没有曝光的光刻胶保护。
所以光刻机在这的功能就是绘制想要的图案;而同样使用电子束镀膜机之前,也要经过光刻机的曝光。
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